氣體純化設(shè)備的發(fā)展和應(yīng)用趨勢(shì)

氣體純化（包括脫硫、脫二氧化碳）解決方案

    通過對(duì)國(guó)內(nèi)外脫硫技術(shù)以及國(guó)內(nèi)電力行業(yè)引進(jìn)脫硫工藝試點(diǎn)廠情況的分析研究，目前脫硫方法一般可劃分為燃燒前脫硫、燃燒中脫硫和燃燒后脫硫等3類?！?/span>

    其中燃燒后脫硫，又稱煙氣脫硫（Flue gas desulfurization，簡(jiǎn)稱FGD），在FGD技術(shù)中，氣源柜按脫硫劑的種類劃分，可分為以下五種方法：以CaCO3（石灰石）為基礎(chǔ)的鈣法，以MgO為基礎(chǔ)的鎂法，以Na2SO3為基礎(chǔ)的鈉法，以NH3為基礎(chǔ)的氨法，以有機(jī)堿為基礎(chǔ)的有機(jī)堿法。世界上普遍使用的商業(yè)化技術(shù)是鈣法，所占比例在90%以上。

    按吸收劑及脫硫產(chǎn)物在脫硫過程中的干濕狀態(tài)又可將脫硫技術(shù)分為濕法、干法和半干（半濕）法。濕法FGD技術(shù)是用含有吸收劑的溶液或漿液在濕狀態(tài)下脫硫和處理脫硫產(chǎn)物，該法具有脫硫反應(yīng)速度快、設(shè)備簡(jiǎn)單、脫硫效率高等優(yōu)點(diǎn)，但普遍存在腐蝕嚴(yán)重、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用高及易造成二次污染等問題?！　?/span>

    半干法FGD技術(shù)是指脫硫劑在干燥狀態(tài)下脫硫、在濕狀態(tài)下再生（如水洗活性炭再生流程），或者在濕狀態(tài)下脫硫、在干狀態(tài)下處理脫硫產(chǎn)物（如噴霧干燥法）的煙氣脫硫技術(shù)。特別是在濕狀態(tài)下脫硫、在干狀態(tài)下處理脫硫產(chǎn)物的半干法，以其既有濕法脫硫反應(yīng)速度快、脫硫效率高的優(yōu)點(diǎn)，又有干法無污水廢酸排出、脫硫后產(chǎn)物易于處理的優(yōu)勢(shì)而受到人們廣泛的關(guān)注。按脫硫產(chǎn)物的用途，可分為拋棄法和回收法兩種。

    蒸汽加熱器是用過熱水蒸氣作為熱源，因此在使用過程中易發(fā)生泄漏而污染加熱介質(zhì)，所以在制造方面要求嚴(yán)格，設(shè)備的造價(jià)也比較高；使用蒸汽進(jìn)行加熱，其價(jià)格比電要便宜，但冬天要進(jìn)行防凍處理。從操作上看，電加熱不會(huì)因蒸汽泄漏而影響吸附器再生的問題，所以設(shè)備造價(jià)較低。

    配氣裝置一般在正常生產(chǎn)中，使用蒸汽加熱器進(jìn)行加熱。當(dāng)蒸汽壓力不足或分子篩需要進(jìn)行活化時(shí)，才投入電加熱器，以提高加熱介質(zhì)的溫度。

1)無論哪種加熱方式，都要注意吸附器再生過程中的加熱和冷吹的溫度曲線變化。溫度曲線的異常變化說明：

①再生熱源(蒸汽或電)不足或氣量不足；

②吸附器負(fù)荷(尤其是吸附水量)有的變化，應(yīng)查明原因；

2)注意吸附器再生時(shí)的壓力變化。壓力升高說明吸附器阻力增大或吸附器的進(jìn)出口閥沒關(guān)嚴(yán)，應(yīng)查明原因；

3)注意加熱時(shí)間的變化。加熱時(shí)間的延長(zhǎng)應(yīng)查明是熱源問題還是吸附器的負(fù)荷增大的影響；

氣體純化設(shè)備的發(fā)展和應(yīng)用趨勢(shì)

    對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備來講，凈化工程技術(shù)在微電子技術(shù)中起著十分重要的作用。微電子技術(shù)的核心是集成電路，而集成電路的生產(chǎn)對(duì)其工藝環(huán)境和工藝流程中的凈化技術(shù)和設(shè)備提出了嚴(yán)格的要求。我國(guó)“九五”期間大力發(fā)展以微電子為重點(diǎn)的信息產(chǎn)業(yè)。凈化工程技術(shù)水平在某種意義上已成為衡量一個(gè)國(guó)家和地區(qū)科學(xué)技術(shù)水平和工業(yè)水平的一個(gè)重要標(biāo)志。

    在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國(guó)與先進(jìn)國(guó)家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71．8萬平方米，而我國(guó)目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國(guó)的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188．5萬平方米。在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國(guó)外已大量建成0．1微米級(jí)的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0．1微米塵埃的千級(jí)廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次／分。